교육

PECVD 성장 온도에 따른 amorphous carbon film의 구조 변화 비정질 탄소(amorphous carbon, a-C) 필름은 다양한 산업 분야에서 중요한 재료로 사용되며, 특히 반도체, 광학, 기계적 보호 코팅 등에서 그 응용이 두드러집니다. PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 공정은 이러한 비정질 탄소 필름을 성장시키는 데 널리 사용되는 방법 중 하나입니다. PECVD는 플라즈마를 이용하여 기체 전구체를 분해하고, 이를 통해 고온에서도 안정적인 필름 성장을 가능하게 합니다. 이 과정에서 성장 온도는 필름의 구조적 특성에 큰 영향을 미치며, 이는 필름의 물리적, 화학적 성질에 직접적인 영향을 미칩니다. 1. PECVD 공정 개요PECVD..

타이탄 연무의 적외선 스펙트럼 특성타이탄은 태양계에서 가장 큰 위성으로, 그 독특한 대기와 표면 환경 덕분에 과학자들 사이에서 많은 관심을 받고 있습니다. 특히 타이탄의 연무는 적외선 스펙트럼 특성으로 인해 다양한 화학적 성분을 분석할 수 있는 중요한 단서를 제공합니다. 1. 타이탄의 대기와 연무타이탄의 대기는 주로 질소(N₂)로 구성되어 있으며, 그 비율은 약 95%에 달합니다. 나머지 5%는 메탄(CH₄), 에탄(C₂H₆), 다이아세틸렌(C₄H₂), 그리고 다양한 유기 화합물로 이루어져 있습니다. 타이탄의 대기는 지구의 대기보다 훨씬 두껍고, 이로 인해 표면 압력이 지구의 약 1.5배에 달합니다. 이러한 대기 조건은 타이탄의 표면에서 액체 메탄과 에탄이 존재할 수 있게 하며, 이는 타이탄의 독특한 환..